晶圆上的电路线宽已缩至纳米级，一粒微小尘埃落在光刻区域就可能导致整片报废。因此半导体前道制程普遍要求千级、百级乃至十级洁净环境，远严于普通食品医药车间。可以说，无尘车间工程的水平直接决定芯片良率与成本。
高端电子车间多采用垂直层流，天花满布高效过滤器，形成自上而下的单向气流，把微粒迅速带离工艺面。无尘车间工程在此类项目中，对送风均匀度、风速稳定性要求极高，任何涡流都可能成为缺陷源。
光刻机对微振动极其敏感，厂房需做隔震基础与浮筑地坪；温湿度波动会影响线宽，通常控制在正负0.5摄氏度与正负3%以内；静电则可能击穿器件，全套防静电地板、腕带与离子化送风缺一不可。这些是电子洁净区别于一般车间的难点。
除微粒外，酸性气体、有机挥发物也会污染晶圆。高端车间引入化学过滤器与AMC监测，把气态分子控制纳入洁净体系。
锂电池极片涂布、光伏电池、OLED面板同样对洁净敏感，带动无尘车间需求外溢。一个大型面板厂洁净面积可达数十万平方米，成为工程方的重要订单来源。
电子半导体把洁净要求推向极致，也倒逼净化工程向更高等级、更严管控演进。谁能攻克振动与微污染难题，谁就握住高端制造的入口。